{"product_id":"ieej-20251201a00901-011","title":"はんだリフローを経ても高比抵抗な高周波ナノグラニュラー膜の検討","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ：\u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No：\u003c\/strong\u003eMAG25154\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名：\u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日：\u003c\/strong\u003e2025\/12\/1\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語)：\u003c\/strong\u003eはんだリフローを経ても高比抵抗な高周波ナノグラニュラー膜の検討\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名：\u003c\/strong\u003e直江 正幸(電磁材料研究所),佐藤 光晴(電磁材料研究所),岩佐 忠義(電磁材料研究所),宗像 誠(崇城大学),高村 陽太(東京科学大学),中川 茂樹(東京科学大学),鈴木 一行(電磁材料研究所),小林 伸聖(電磁材料研究所)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語)： \u003c\/strong\u003eMasayuki Naoe(Research Institute for Electromagnetic Materials),Mitsuharu Sato(Research Institute for Electromagnetic Materials),Tadayoshi Iwasa(Research Institute for Electromagnetic Materials),Makoto Munakata(Sojo University),Yota Takamura(Institute of Science Tokyo),Shigeki Nakagawa(Institute of Science Tokyo),Kazuyuki Suzuki(Research Institute for Electromagnetic Materials),Nobukiyo Kobayashi(Research Institute for Electromagnetic Materials)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード：\u003c\/strong\u003eナノグラニュラー膜,比抵抗,フッ化物,はんだリフロー,フラッシュアニール,カルーセルスパッタ,Nanogranular films,Electrical resistivity,Fluorides,Solder reflow process,Flash lamp annealing,Carousel sputtering\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語)：\u003c\/strong\u003eフッ化物をマトリックスとした強磁性ナノグラニュラー膜は、成膜状態では極めて高い比抵抗を呈するが、熱履歴を経るとそれが大幅に低下する。はんだリフロー温度の260℃は本膜の耐熱性にとって高い温度であることが判り、リフロー後にも実用に耐える比抵抗を保つ膜を得るための検討を、カルーセルスパッタを用いて行った。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語)：\u003c\/strong\u003eAs-deposited ferromagnetic nanogranular films with fluoride matrixes exhibit high resistivity. However, significantly dropping of the resistivity through the thermal history as an outstanding problem for thermal stability of the films. The solder reflow temperature of 260°C was found to be high for the films. In order to obtain high-resistive films sufficient for practical use even after the reflow, the authors investigated how to solve this issue using the carousel sputtering method.\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e本誌：\u003c\/strong\u003e\u003ca href=\"\/products\/IEEJ-20251201A00901\"\u003e2025年12月4日-2025年12月5日マグネティックス研究会\u003c\/a\u003e\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e本誌掲載ページ：\u003c\/strong\u003e45-50p\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別：\u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ：\u003c\/strong\u003e1,443Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-P10","offers":[{"title":"冊子印刷（一般価格660円\/会員価格440円） \/ A4 \/ 6","offer_id":47242078847215,"sku":"IEEJ-20251201A00901-011-PRT","price":660.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true},{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":47242078879983,"sku":"IEEJ-20251201A00901-011-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-KENKYUKAI_2242c129-a6ba-4d52-9556-621f09d73b3c.png?v=1764320330","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-20251201a00901-011","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}