{"product_id":"ieej-25am2-ps-027","title":"A Design of CMOS-MEMS Micro-mirror Arrays by 0.35-um 2-Poly-3-Metal Process","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e部門大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e25am2-PS-027\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e第33回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2016\/10\/17\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eA Design of CMOS-MEMS Micro-mirror Arrays by 0.35-um 2-Poly-3-Metal Process\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003eCHENG ZHENGXI(the University of Tokyo),Toshiyoshi Hiroshi(the University of Tokyo)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e静電駆動型,マイクロミラー構造,駆動電圧\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e設計ルール0.35μｍのＣＭＯＳ技術を想定して、ポリシリコン２層、メタル３層を用いた表面マイクロマシニング技術による静電駆動型マイクロミラー構造を設計・製作したので報告する。ミラー寸法18μｍ×18μｍの４×４アレイ構造で、駆動電圧１７．６Ｖ、共振周波数３１１ｋＨｚが設計可能である。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語): \u003c\/strong\u003eWe present a design of bi-stable micro mirror array based on the 0.35-?m CMOS-MEMS technology. Typical pull-in voltage of 17.6 V and resonance of 311 kHz are designed for a 4 x 4 pixel array.\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e430 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 4","offer_id":46407077888239,"sku":"IEEJ-25am2-PS-027-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_6feba79d-13e2-4b3f-87c3-92a83a5c9248.png?v=1745161779","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-25am2-ps-027","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}