{"product_id":"ieej-bta2025-3-p1-14","title":"DLC成膜用容量結合型高周波He\/COプラズマのシミュレーション","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ：\u003c\/strong\u003e部門大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No：\u003c\/strong\u003e3-P1-14\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名：\u003c\/strong\u003e【A】令和７年電気学会基礎・材料・共通部門大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日：\u003c\/strong\u003e2025\/8\/27\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語)：\u003c\/strong\u003e\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名：\u003c\/strong\u003e滝口 達也(千葉工業大学)，針谷 達(岐阜大学)，上坂 裕之(岐阜大学)，小田 昭紀(千葉工業大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語)： \u003c\/strong\u003e\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード：\u003c\/strong\u003eシミュレーション,低圧プラズマ,プラズマCVD,ダイヤモンドライクカーボン\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語)：\u003c\/strong\u003eCOガスを原料ガスとしたプラズマCVD法を用いることで, 水素フリーなダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を作製できる. しかし, COガス由来のDLC膜は,膜中に水素を含まない一方で, 酸素を含有するため膜硬度が十分に向上しない課題がある. この課題の解決には, 本プラズマ内の粒子種や電子温度などの基礎特性を詳細に把握した上で成膜時の酸素の基板への入射量を抑制する必要がある. そこで本研究では, 高硬度なDLC成膜を目的としたHe\/CO混合ガスを用いた容量結合型RFプラズマの空間1次元流体モデルを新たに構築し,本モデルによるプラズマシミュレーションを行ったので,その結果についてその結果について報告する.\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ：\u003c\/strong\u003e327Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":49643092017391,"sku":"IEEJ-BTA2025-3-P1-14-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_bumontaikai_e4773ed9-74a9-4649-903e-39d87e365893.png?v=1780541861","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-bta2025-3-p1-14","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}