{"product_id":"ieej-ct11gs10003","title":"X線光電子分光法(XPS)によるSi基板上のシランカップリング処理層の再生評価と制御","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e部門大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eGS10-3\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】平成23年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2011\/09\/07\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eControl and Evaluation of Silane Coupled Si Wafer by Using XPS\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e相場 崇(長岡技術科学大学),河合 晃(長岡技術科学大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTakashi Aiba(Nagaoka University of Technology),Akira Kawai(Nagaoka University of Technology)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eMEMS|XPS|FT-IR|HMDS|シランカップリング処理表面自由エネルギー|MEMS|XPS|FT-IR|HMDS|Silane coupling treatmentSurface free energy\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003eシランカップリング剤(HMDS)を用いたSi基板上の濡れ性制御は、高分子材料との密着性において重要な役割を有しており、高分子材料を用いるMEMSやプロセスの超微細化において技術的必要性が年々高まっている。本発表ではXPSを用いて、シランカップリング処理されたSi基板表面の解析を行い、接触角測定による表面自由エネルギーの計算、FT-IR測定による解析結果との関連付けを行う。そして、シランカップリング層の再生処理を行い、その有効性を議論する。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e3,407 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 5","offer_id":46406478561519,"sku":"IEEJ-CT11GS10003-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_2e72c903-d3fc-42f0-8a98-0483c2772741.png?v=1745139858","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ct11gs10003","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}