{"product_id":"ieej-dt11y003","title":"シリコン酸化膜基板上における酸化グラフェン薄膜の形成","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e部門大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eY-3\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【D】平成23年電気学会産業応用部門大会講演論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2011\/09\/06\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eFabrication of Graphene Oxide Thin Films on SiO2 surfaces\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e伊藤 智昭(横浜国立大学),塚本 貴広(横浜国立大学),荻野 俊郎(横浜国立大学),河村 篤男(横浜国立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTomoaki Ito(Yokohama National University),Takahiro Tsukamoto(Yokohama National University),Toshio Ogino(Yokohama National University),Atsuo Kawamura(Yokohama National University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e酸化グラフェン|透明導電膜|APTES| Graphene Oxides|transparent conductive film|APTES\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,254 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46405555224815,"sku":"IEEJ-DT11Y003-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_b08db026-f528-4ff2-bbe6-d96c2ca165e4.png?v=1745101705","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-dt11y003","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}