{"product_id":"ieej-ed05067","title":"C8F18 プラズマCVD による低誘電率膜堆積とその化学的、電気的特性","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eED05067\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/08\/04\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDeposition of low-k films by C8F18 plasma CVD and their chemical and electrical characteristics\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e田津将太 (相毎道大学),酒井 洋輔(相毎道大学),須田 善寺子(相毎道大学),菅原 広剛(相毎道大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eShota Tazawa(Hokkaido University),Yosuke Sakai(Hokkaido University),Yoshiyuki Suda(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e低誘電率層間絶縁膜|プラズマCVD|C8F18|絶縁破壊電圧\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,227 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46361663275247,"sku":"IEEJ-ED05067-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_7ea9a3f8-cf0e-4110-bc08-7128eb5df015.png?v=1743610521","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ed05067","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}