{"product_id":"ieej-ed05150","title":"Y 字状フィルタードアーク蒸着装置の開発と銅配線膜の成膜","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eED05150\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/12\/08\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDevelopment of V-shape Filtered Arc Deposition Apparatus and Cu Film Deposition for Wiring\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e岩崎康浩(豊橋技術科学大学),彦坂博紀(豊橋技術科学大学),田上英人(豊橋技術科学大学),滝川浩史(豊橋技術科学大学),榊原建樹(豊橋技術科学大学),長谷川祐史(株式会社オンワード技研),辻信広(株式会社オンワード技研)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHiroki Hikosaka|Yasuhiro Iwasaki|Hirofumi Takikawa|Tateki Sakakibara|Hiroshi Hasegawa|Nobuhiro Tuji\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eY字状フィルタードアーク蒸着装置(Y-FAD)|配線用Cu 膜|プラズマミキサ|成膜速度|成膜分布\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,260 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46361667043567,"sku":"IEEJ-ED05150-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_bfbcc9bc-a8c9-406c-a7eb-b55ccb24eaec.png?v=1743610805","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ed05150","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}