{"product_id":"ieej-ed05157","title":"PBII\u0026D 法によるRF スバッタを用いたカーボン膜およびタングステンカーボン膜生成","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eED05157\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/12\/09\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003ePreparation of carbon film and tungsten carbon film using a sputter-based carbon ion sources in RF(13.56MHz) PBII\u0026amp;D\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e小野浩之 (同志社大学),行村建 (同志社大学),中村圭二 (中部大学),須田善行 (北海道大学),高木浩一 (岩手大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eスパッタリング|イオン源|誘導結合型RF プラズマ|プラズマイオン注入\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,023 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46361667895535,"sku":"IEEJ-ED05157-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_f805e157-1b10-4853-ab4c-5817eb29e302.png?v=1743610837","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ed05157","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}