{"product_id":"ieej-ed09080","title":"大気圧非平衡DCパルスプラズマジェットによる半導体製造過程における洗浄技術の開発","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eED09080\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　放電研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/08\/06\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDevelopment of Cleaning Technology on Semiconductor Equipment Process for Atmospheric-pressure Non-equilibrium DC Pulse Plasma Jet\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e湯地 敏史(宮崎大学),川野 泰和(大分大学),龍口 直人(大分デバイステクノロジー),佐藤慎也 (JASCOエンジニアリング),赤塚 洋(東京工業大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eToshifumi Yuji(University of Miyazaki),Hirokazu Kawano(Oita University),Naoto Tatsuguchi(Oita Device Technology Co.,Ltd.),Shinya Satoh(JASCO Engineering Co.),Hiroshi Akatsuka(Tokyo Institute of Technology)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eDCパルス|プラズマジェット|フーリエ変換赤外分光光度計|半導体|金型|DC pulse|Plasma jet|Fourier transform infrared spectroscopy|Semiconductor|Mold\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,283 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 10","offer_id":46362327384303,"sku":"IEEJ-ED09080-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_f16d07e1-2625-47aa-baaf-3a9a5bf02bce.png?v=1743624496","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ed09080","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}