{"product_id":"ieej-efm05029","title":"ポーラスシリカの低誘電率絶縁膜への応用","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eEFM05029\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/06\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDevelopment of Mesoporous Silica Films for Ultra Low-k Interlayer Dielectrics\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e藤井 宣年(半導体MIRAI-ASET),中山 高博(半導体MIRAI-ASET),高村 一夫(半導体MIRAI-ASET),田中 博文(半導体MIRAI-ASET),清野 豊(半導体MIRI-産総研 ASRC),秦 信宏(半導体MIRI-産総研 ASRC),吉野 雄信(半導体MIRI-産総研 ASRC),吉川 公麿(半導体MIRAI-産総研 ASRC,広島大)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eNobutoshi Fujii(MIRAI-ASET),Takahiro Nakayama(MIRAI-ASET),Kazuo Komura(MIRAI-ASET),Hirofumi Tanaka(MIRAI-ASET),Yutaka Seino(MIRAI-ASRC-AIST),Nobuhiro Hata(MIRAI-ASRC-AIST),Takenobu Yoshino(MIRAI-ASRC-AIST),Takamaro Kikkawa(RCNS,Hiroshima University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e低誘電率層間絶縁膜|メソポーラスシリカ|界面活性剤|機械的強度\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e723 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46361654296815,"sku":"IEEJ-EFM05029-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_3eead600-d30c-47f3-84e9-0dee2d2a05cb.png?v=1743609949","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-efm05029","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}