{"product_id":"ieej-efm06021","title":"Cl系-Si系混合ガスを用いたエピ前低温表面処理法の検討","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eEFM06021\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/10\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eA Study on Low-Temperature Pre-Epi Surface Treatment Using Cl-based and Si-based Gas Mixture\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e王杰 (日立国際電気),山本 克彦(日立国際電気),森谷 敦(日立国際電気),橋場 祥晶(日立国際電気),井ノ口 泰啓(日立国際電気),国井 泰夫(日立国際電気)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eJie Wang(Hitachi Kokusai Electric Inc.),Katsuhiko Yamamoto(Hitachi Kokusai Electric Inc.),Atsushi Moriya(Hitachi Kokusai Electric Inc.),Yoshiaki Hashiba(Hitachi Kokusai Electric Inc.),Yasuhiro Inokuchi(Hitachi Kokusai Electric Inc.),Yasuo Kunii(Hitachi Kokusai Electric Inc.)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e減圧化学気相成長|エピタキシャル成長|前処理|表面清浄化|低温|選択成長|シリコンゲルマニウム|多結晶シリコン|エッチング\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e580 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46361751322863,"sku":"IEEJ-EFM06021-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_6487d857-634e-4927-882f-387b679a7a84.png?v=1743613546","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-efm06021","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}