{"product_id":"ieej-efm06022","title":"HF酸処理SiGe(100)表面の初期酸化過程の観察","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eEFM06022\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/10\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eInitial oxidation of HF-acid treated SiGe(100) surfaces\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e廣瀬 文彦(山形大学工学部),永戸 雅也(山形大学工学部),木下 友太(山形大学工学部)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eFumihiko,Hirose|Masaya,Nagato|Yuta,Kinoshita\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eSiGe| 初期酸化|SiGe(100)|HF酸処理|SR|XPS|MOS\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e683 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46361751388399,"sku":"IEEJ-EFM06022-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_8f5ffc1d-6cc1-493e-b95a-4131da4e6855.png?v=1743613549","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-efm06022","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}