{"product_id":"ieej-efm06024","title":"Si基板上SiC極薄膜の低温形成とユビキタスデバイスへの応用","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eEFM06024\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/10\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eLow-temperature formation of ultrathin SiC films on Si substrates and its application to ubiquitous devices\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e末光 眞希(東北大学),今野 篤史(東北大学),伊藤 隆(東北大学),遠藤哲郎 (東北大学),成田克 (九州工業大学),安井 寛治(長岡技術科学大学),中澤 日出樹(弘前大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eMaki Suemitsu(Tohoku University),Atsushi Konno(Tohoku University),Takashi Itoh(Tohoku University),Tetsuo Endoh(Tohoku University),Yuzuru Naruta(Kyushu Institute of Technology),Kanji Yasui(Nagaoka Univ. of Technology),Hideki Nakazawa(Hirosaki University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eユビキタス社会|ネットワーク|炭化ケイ素|ヘテロエピタキシ|有機シラン|ガスソースMBE|SiC\/Si\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e720 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46361752830191,"sku":"IEEJ-EFM06024-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_fbaf739e-4d4c-47e6-a587-bc17e0b3739f.png?v=1743613556","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-efm06024","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}