{"product_id":"ieej-efm08003","title":"混載メモリ応用へ向けた相制御Ni-FUSI\/HfSiONゲートスタックのインテグレーション技術","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eEFM08003\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/05\/14\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eIntegration Technology of PC-FUSI (Phase Controlled FUSI) \/ HfSiON Gate Stack for Embedded Memory Application\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e西藤哲史 (日本電気),増崎幸治 (NECエレクトロニクス),高橋 健介(日本電気),砂村潤 (NECエレクトロニクス),間部 謙三(NECエレクトロニクス),辰巳 徹(日本電気),渡辺 啓仁(NECエレクトロニクス),小倉 卓(NECエレクトロニクス),白井 浩樹(NECエレクトロニクス)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eMotofumi Saitoh(NEC Corporation),Koji Masuzaki(NEC Electronics Corporation),Kensuke Takahashi(NEC Corporation),Hiroshi Sunamura(NEC Electronics Corporation),Kenzo Manabe(NEC Electronics Corporation),Toru Tatsumi(NEC Corporation),Hirohito Watanabe(NEC Ele),Takashi Ogura(NEC Ele),Hiroki Shirai(NEC Ele)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eNiシリサイド|Hfシリケート|高誘電率ゲート絶縁膜|金属ゲート電極|Ni Silicide|Hf Silicate|High-k|metal gate\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e756 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46362104987887,"sku":"IEEJ-EFM08003-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_ff8398d7-5946-4b4a-a089-528e6072aca7.png?v=1743620110","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-efm08003","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}