{"product_id":"ieej-efm08031","title":"トリメチルアミノシラン・オゾンを用いたシリコン酸化膜の原子層堆積法の素反応解析","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eEFM08031\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【C】電子・情報・システム部門　電子材料研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/09\/27\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eReaction kinetics on SiO2 atomic layer deposition with tris-dimethyl aminosilane and ozone\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e廣瀬 文彦(山形大),木下 友太(山形大),成田 克(山形大),宮 博信(日立国際電気),平原 和弘(信越化学),木村 康男(東北大),庭野 道夫(東北大)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eFumihiko Hirose(Yamagata University),Yuta Kinoshita(Yamagata University),Yuzuru Narita(Yamagata University),Hironobu Miya(Hitachi- Kokusai),Kazuhiro Hirahara(Shinetsu-chemical),Yasuo Kimura(Tohoku univ),Michio Niwano(Tohoku univ)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e原子層堆積|ゲート|吸着|酸化|赤外吸収分光|Si|SiO2|ALD|atomic layer deposition|gate stack|adsorption|oxidization|IR absorption spectroscopy|Si|SiO2\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e458 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46362058096879,"sku":"IEEJ-EFM08031-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_7adf5f57-abb4-4d0b-b01d-07555ebc8ffd.png?v=1743618044","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-efm08031","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}