{"product_id":"ieej-im09012","title":"厚膜レジスト光リソグラフィのマイクロメカニクスへの応用","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eIM09012\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　計測研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/02\/05\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eApplication of Optical Lithography Using a Thick Resist Film to Micro-Mechanics\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e堀内 敏行(東京電機大学),阿 松男(東京電機大学),渡部 雄介(ニコン)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eToshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki University),Matsuo Ataka(Tokyo Denki University),Yuusuke Watanabe(Tokyo Denki University,Present Address:Nikon Corporation)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e厚膜レジスト|光リソグラフィ|投影露光|マイクロ羽根車|マイクロメカニクス|めっき雌型|Thick resist|optical lithography|projection exposure|micro-impeller|micro-mechanics|mould for electroplating\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,145 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46362126450927,"sku":"IEEJ-IM09012-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_822f6210-56a7-4541-8276-3b160a29958f.png?v=1743621135","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-im09012","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}