{"product_id":"ieej-lav06005","title":"EUV露光装置技術の開発の現状","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eLAV06005\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　光応用・視覚研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/03\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003ePresent status of key technologies for EUV lithography system\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e福田 恵明(技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eYasuaki Fukuda(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association : EUVA)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e多層膜|反射光学系|投影光学系|プラズマ光源|LPP|DPP|イオンビーム加工技術|EEM|加工技術|コンタミネーション制御|表面酸化\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e992 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46393561546991,"sku":"IEEJ-LAV06005-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_ef38d74d-0e11-466e-902f-81bd8fbe3ad2.png?v=1744696891","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-lav06005","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}