{"product_id":"ieej-lav06006","title":"低分子EUVレジストの開発","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eLAV06006\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　光応用・視覚研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/03\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDevelopment of Molecular Resist for EUV Lithography\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e塩野 大寿(東京応化工業株式会社),平山 拓(東京応化工業株式会社),羽田 英夫(東京応化工業株式会社),小野寺 純一(東京応化工業株式会社),新井 唯(株式会社日立製作所中央研究所),山口 敦子(株式会社日立製作所中央研究所),小島 恭子(株式会社日立製作所中央研究所),白石洋(株式会社日立製作所中央研究所),福田 宏(株式会社日立製作所中央研究所),老泉博昭(ASET),西山岩男(ASET)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eDaiju Shiono|Taku Hirayama|Hideo Hada|Junichi Onodera|Tadashi Arai|Atsuko Yamaguchi|Kyoko Kojima|Hiroshi Shiraishi|Hiroshi Fukuda\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e低分子レジスト|低ラフネス|化学増幅ポジ型\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e562 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46393561579759,"sku":"IEEJ-LAV06006-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_a90a26af-4d51-434b-972c-c93227d5d894.png?v=1744696908","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-lav06006","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}