{"product_id":"ieej-lav09026","title":"hp32nm以降のArF液浸DP用Freezing技術","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eLAV09026\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/03\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eFreezing Technology in ArF Immersion Double Patterning for below hp32nm\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e稗田 克彦(JSR),星子 賢二(JSR),塩谷 健夫(JSR),庵野裕輔 (JSR),柿澤 友洋(JSR),堀 雅文(JSR),征矢野 晃雅(JSR),藤原 考一(JSR),中村 敦(JSR),杉浦 誠(JSR),山口 佳一(JSR),下川 努(JSR)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eKatsuhiko Hieda(JSR Corporation),Kenji Hoshiko(JSR Corporation),Takeo Shioya(JSR Corporation),Yusuke Anno(JSR Corporation),Tomohiro Kakizawa(JSR Corporation),Masafumi Hori(JSR Corporation),Akimasa Soyano(JSR Corporation),Koichi Fujiwara(JSR Corporation),Atsushi Nakamura(JSR Corporation),Makoto Sugiura(JSR Corporation),Yoshikazu Yamaguchi(JSR Corporation),Tsutomu Shimokawa(JSR Corporation)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eダブルパターニング|レジスト固化|ArF液浸露光|化学的収縮|Double Patterning|Resist Freezing|ArF Immersion Lithography|Chemical Shrink\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,257 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46393745441007,"sku":"IEEJ-LAV09026-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_f884733f-497e-4224-9fa1-4954c8e0a493.png?v=1744706747","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-lav09026","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}