{"product_id":"ieej-lav09027","title":"不均一なパターン密度においても均一で薄い残膜を形成するナノインプリント手法","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eLAV09027\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/03\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eNanoimprint method producing thin and uniform residual layer for various pattern densities\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e廣 島洋(産業技術総合研究所,JST-CREST)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHiroshi Hiroshima(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology,JST-CREST)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eナノインプリントリソグラフィ|光ナノインプリント|残膜|パターン密度|容積均一化モールド|nanoimprint lithography|UV-nanoimprint|residual layer|pattern density|capacity equalized mold\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e811 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46393745408239,"sku":"IEEJ-LAV09027-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_cf79ffbc-339d-452d-985f-2f0b1e851030.png?v=1744706743","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-lav09027","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}