{"product_id":"ieej-lav09028","title":"EUV露光技術の開発状況","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eLAV09028\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/03\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eCurrent Development Status of EUV Lithography\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e笠間 邦彦(EUVA),堀田和明 ウシオ電機(EUVA.ウシオ電機)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eKunihiko Kasama(EUVA),Kazuaki Hotta.Ushio Inc (EUVA.Ushio Inc.)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e極端紫外線露光|LPP光源|DPP光源|波面収差|フレア|化学増幅系レジスト|ライン幅ラフネス|Extreme ultraviolet lithography|Laser Produced Plasma source|Discharge Produced Plasma source|Wave front aberration|Flare|Chemically amplified resist|Line width roughness\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,240 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46393745473775,"sku":"IEEJ-LAV09028-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_8cc98fd5-211e-4f16-bee5-fdd36d498399.png?v=1744706750","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-lav09028","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}