{"product_id":"ieej-lav09029","title":"EUVLマスク評価の現状と今後の課題","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eLAV09029\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　光応用･視覚研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/03\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eStatus of EUVL Mask Inspection System\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e木下 博雄(兵庫県立大学),渡邊 健夫(兵庫県立大学),原田 哲男(兵庫県立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHiroo Kinoshita(UNIVERSITY OF HYOGO),Takeo Watanabe(UNIVERSITY OF HYOGO),Tetuo Harada(UNIVERSITY OF HYOGO)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e極端紫外線リソグラフィ|マスク|欠陥|検査|EUVL|Mask|Defect|Inspection\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e773 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46393745506543,"sku":"IEEJ-LAV09029-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_c54251ec-ef2e-4a61-b25c-7bf5d9734e35.png?v=1744706753","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-lav09029","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}