{"product_id":"ieej-mag19218","title":"MEMS 応用を鑑みた Si 基板上への R -Fe- B 系厚膜磁石の作製","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eMAG19218\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2019\/12\/24\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eFabrication of R-Fe-B thick film magnets on Si substrates applied to MEMS\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e山口 貴士(長崎大学),竹市 蕉(長崎大学),松岡 凌平(長崎大学),桃崎 瑞貴(長崎大学),高嶋 惠佑(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),進士 忠彦(東京工業大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTakashi Yamaguchi(Nagasaki University),Sho Takeichi(Nagasaki University),Ryohei Matsuoka(Nagasaki University),Mizuki Momosaki(Nagasaki University),Keisuke Takashima(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Tadahiko Shinshi(Tokyo Institute of Technology),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eＳｉ基板|ＭＥＭＳ|ＰＬＤ法|ガラス|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ|Ｐｒ－Ｆｅ－Ｂ|Si substrate|MEMS|PLD(Pulsed Laser Deposition)method|glass|Nd-Fe-B|Pr-Fe-B\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003eMEMS応用を鑑みた「Si基板上への厚膜磁石」の作製が要求される中，我々はPLD（Pulsed Laser Deposition）法により、等方性R(Nd or Pr)-Fe-B系厚膜磁石のSi基板への成膜や微細加工などを報告してきた。本研究では，(1)磁気特性の向上や(2)マイクロ着磁を鑑みて，ガラス下地層を挿入したSi基板への成膜を検討した。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語): \u003c\/strong\u003ePreparation of thick film magnets has been required to apply them to MEMS. We have reported the deposition of isotropic R(Nd or Pr)-Fe-B thick film magnets on Si substrates using PLD（Pulsed Laser Deposition）and their micromachining. In the report, in order to improve the magnetic properties and demonstrate the micro-magnetization, the deposition of the films on Si substrates with each glass under-layer was carried out.\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e964 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 4","offer_id":46393236947183,"sku":"IEEJ-MAG19218-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_27ff0aff-e31d-43af-abcb-c0a9dabdfa5c.png?v=1744684461","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-mag19218","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}