{"product_id":"ieej-ppt05008","title":"PBII\u0026D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた参加銅成膜","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePPT0508\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/01\/21\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003ePreparation of copper oxide film using a sputter-based copper ion source in RF (13.56MHz)PBII\u0026amp;D\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e中村 圭二 小野 浩之 行村 健 Xinxin Ma 佐々木 宗生()\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003ekenji nakamura Hiroyuki Ono Ken Yukimura Xinxin Ma Muneo sasaki()\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eスパッタリング|イオン源|誘導結合型RFプラズマ|プラズマイオン注入堆積\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語): \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　パルスパワー研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e916 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46359744086255,"sku":"IEEJ-PPT05008-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_19832c8f-eae3-47b3-aab9-6f443649fd18.png?v=1743494429","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ppt05008","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}