{"product_id":"ieej-ppt09035","title":"プロセスチャンバー汚損内壁の環境調和型プラズマクリーニング法の検討","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePPT09035\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　パルスパワー研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/08\/06\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eStudy on the environment-friendly plasma cleaning method for contaminated process chamber wall\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e根本 翔(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eSho Nemoto(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e正プラズマバイアス法|チャンバークリーニング|イオンスパッタリング|環境保護|Positive plasma bias method|chamber cleaning|ion sputtering|environmental protection\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e759 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46359378133231,"sku":"IEEJ-PPT09035-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_04cda159-2b54-4cc2-b2f7-23b7aaab8b6d.png?v=1743479095","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-ppt09035","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}