{"product_id":"ieej-pst05001","title":"プラズマベースイオン注入法を用いてシリコン中に注入した窒素の高分解RBS デプスプロファイル","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST05001\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/03\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eHigh resolution RBS depth profile of nitrogen in Si for sterilization process by PBII\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e田中 武 薮 康章 谷島 源太 池本 努 高木 俊宜 渡邊 悟志(広島工業大学,創研工業)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTakeshi Tanaka Yasuaki Yabu Genta Tanishima Tsutomu Ikemoto Takeru Nakashima Toshinori Takagi(Hiroshima Institute of Technology) Satoshi Watanabe(Soken Industries Co.  Ltd)()\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語): \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e885 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46359750115567,"sku":"IEEJ-PST05001-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_9b315c44-3a44-4922-8532-e7e75e9389af.png?v=1743494722","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst05001","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}