{"product_id":"ieej-pst05008","title":"シャンテイングアークアシストRF(195kHz) 放電のイオン電流とイオン密度","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST05008\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/03\/03\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eThe plasma characteristic of omnidirectional shunting arc discharge\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e行村 建 江古 憲一 高木 浩一 向川 政治 藤原 民也(同志社大学,岩手大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eKenichi Ego Ken Yukimura(Doshisha University)Koichi Takagi Seiji Mukaigawa Tamiya Fujiwara(lwate University)()\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eシャンティングアーク放電,PBII\u0026amp;D法,アモルファスカーボン薄膜,メタンガス,プラズマ密度\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語): \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,137 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46359706173679,"sku":"IEEJ-PST05008-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_ee848421-2212-40ec-8464-1fc5e175b767.png?v=1743492658","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst05008","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}