{"product_id":"ieej-pst06086","title":"プラズマイオン注入･成膜法を用いて作製したSiCx膜の特性評価","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST06086\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/11\/10\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eProperties of SiCx Film Prepared by Plasma-based Ion Implantation and Deposition\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e内海 隆行(兵庫県立大学),奥野 二郎(兵庫県立大学),岡 好浩(兵庫県立大学),藤原 閲夫(兵庫県立大学),八束充保 (兵庫県立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTakayuki Utsumi(University of Hyogo),Jiro Okuno(University of Hyogo),Yoshihiro Oka(University of Hyogo),Etsuo Fujiwara(University of Hyogo),Mitsuyasu Yatsuzuka(University of Hyogo)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eプラズマイオン注入成膜法|siCx膜|残留応力|硬度|複合膜|スクラッチ試験\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,012 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46359242047727,"sku":"IEEJ-PST06086-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_d94e6714-32f4-4801-a8fd-97d6be69aa30.png?v=1743472799","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst06086","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}