{"product_id":"ieej-pst06087","title":"正バイアス電極を持つ間欠ジルコニウムPBII\u0026D法による酸化ジルコニウム膜生成","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST06087\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/11\/10\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eOxidation zirconium film generation with intermittent zirconium PBII\u0026amp;D method with positive bias electrode.\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e明石 周平(同志社大学),行村 建(同志社大学),須田 善行(北海道大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eAkashi Syuuhei(Department of Electrical Engineering,Doshisha Univesity,1-3 Tatara-Miyakodani,kyotanabe,Kyoto 610-0321,Japan),Yukimura Ken(Department of Electrical Engineering,Doshisha Univesity,1-3 Tatara-Miyakodani,kyotanabe,Kyoto 610-0321,Japan),Suda Yoshiyuki(Hokkaidou University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eプラズマイオン注入･堆積|ジルコニア|陰極アーク|XPSスペクトル\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,040 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46359242113263,"sku":"IEEJ-PST06087-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_7a79d373-2a93-43e2-a4b3-41307c9560be.png?v=1743472802","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst06087","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}