{"product_id":"ieej-pst07026","title":"デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST07026\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2007\/08\/20\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eEffects of the grid coarseness and the bias voltage on the formation of the dual-plasma configuration\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e佐藤広輝 (茨城大学),野中 裕彌(茨城大学),池畑 隆(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),行村 建(同志社大学),東 欣吾(兵庫県立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHiroki Sato(Ibaraki University),Yuya Nonaka(Ibaraki University),Takashi Ikehata(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University),Ken Yukimura(Doshisha University),Kingo Azuma(University of Hyogo)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eデュアルプラズマ|絶縁物|グリッド粗さ|印加電圧|イオンシース|dual-plasma|insulators|grid coarseness|applied voltage|ion sheath\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e452 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 9","offer_id":46359292182767,"sku":"IEEJ-PST07026-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_f91ff52e-b1fe-43ca-a2ac-2def49e7432e.png?v=1743474581","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst07026","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}