{"product_id":"ieej-pst08040","title":"C2H2F2を用いたプラズマCVD法による撥水性薄膜合成とその密着性の検討","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST08040\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/07\/04\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003ePreparation of water-repellent thin film with plasma CVD using C2H2F2 gas and investigation of its adhesion\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e和田 憲和(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学),大津 康徳(佐賀大学),藤田 寛治(佐賀大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eNorikazu Wada(Saga University),Tatsuya Misawa(Saga University),Yasunori Ohtsu(Saga University),Hiroharu Fujita(Saga University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e誘導結合型プラズマ|プラズマCVD法|ジフルオロエチレン|低電子温度プラズマ|撥水性|密着性|Inductively Coupled Plasma|plasma CVD method|di-fluoro ethylene(C2H2F2)|low-electron temperature plasma|water repellency|adhesion\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e451 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 6","offer_id":46359333208303,"sku":"IEEJ-PST08040-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_762bd104-d6de-4cb2-a067-e3cad7710f62.png?v=1743476967","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst08040","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}