{"product_id":"ieej-pst08048","title":"水素・アルゴン混合パルスプラズマによるスズ薄膜のエッチングに関する研究","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST08048\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/07\/05\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eStudy of Plasma Etching by Pulsed Discharge Plasma with Hydrogen and Argon Mixed Gases for Tin Thin Film\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e東 欣吾(兵庫県立大学),中島章孝 (兵庫県立大学),藤原 閲夫(兵庫県立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eKingo Azuma(University of Hyogo),Nakashima (University of Hyogo),Etsuo Fujiwara(University of Hyogo)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eプラズマエッチング|プラズマイオンプロセス|パルス高電圧|パルスプラズマ|スズ|Plasma etching|Plasma ion process|Pulsed plasma|Pulsed voltage|Tin\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e638 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46359333699823,"sku":"IEEJ-PST08048-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_558f4722-6d0d-4311-a981-1c5e9a1f817b.png?v=1743477002","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst08048","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}