{"product_id":"ieej-pst08086","title":"低誘電率薄膜（ＭＳＱ）のアンモニアプラズマ窒化と誘電体メッシュの効果","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST08086\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/12\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eAmmonia plasma nitridation of low dielectric constant film MSQ(methylsilsesquioxane)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e及川 勇太向川政治＊高木浩一藤原民也(岩手大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eYuta Oikawa(Iwate University),Seiji Mukaigawa(Iwate University),Koichi Takaki(Iwate University),Tamiya Fujiwara(Iwate University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eアンモニアプラズマ| 窒化，MSQ，low-k，誘電体メッシュ，XPS| 分光エリプソメトリammonia plasma| nitridation| MSQ| low-k| dielectric mesh| XPS| Spectroscopic ellipsometry\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(英語): \u003c\/strong\u003eWe studied the NH3 plasma treatment with dielectric mesh on the Low-k surface. Ammonia plasma treatment of Methylsilsesquioxiane(MSQ) low dielectric films was conducted by using RF(13.56MHz) discharge plasma, and nitride layer of MSQ surface was formed. T\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e719 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 10","offer_id":46359336255727,"sku":"IEEJ-PST08086-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_8bf4a2c4-8a06-41b9-afb3-132b8854b412.png?v=1743477143","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst08086","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}