{"product_id":"ieej-pst09001","title":"高品質光安定a-Si:H薄膜作製用マルチホロー放電における電子密度の空間分布","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST09001\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/06\/12\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eSpatial profiles of electron density in multi-hollow discharges for depositing highly stable a-Si:H thin films of high quality\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e古閑一憲(九州大学),佐藤宙(九州大学),川嶋勇毅(九州大学),中村誠ウィリアム(九州大学),白谷正治(九州大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eKazunori Koga|Hiroshi Sato|Yuuki Kawashima|Masaharu Shiratani\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e水素化アモルファスシリコン|光劣化|マルチホロー放電プラズマCVD|クラスタ|周波数シフトプローブ|Hydrogenated amorphous silicon|light induced degradation|multi-hollow discharge plasma CVD|cluster|frequency shift probe\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e451 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46359387635951,"sku":"IEEJ-PST09001-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_f5cceed4-88bb-4c05-829e-57df5b5483d3.png?v=1743479613","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst09001","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}