{"product_id":"ieej-pst09002","title":"周波数シフトプローブにおける膜堆積の影響","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST09002\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎･材料･共通部門　プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2009\/06\/12\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eInfluences of Film Deposition in Frequency Shift Probe\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e張祺 (中部大学),中村 圭二(中部大学),菅井 秀郎(中部大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eQi Zhang(Chubu University),Keiji Nakamura(Chubu University),Hideo Sugai(Chubu University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e周波数シフトプローブ|電子密度|反応性プラズマ|密度モニタリング|frequency shift probe|electron density|reactive plasma|density monitoring\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e646 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 8","offer_id":46359387668719,"sku":"IEEJ-PST09002-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_98790b25-c8c1-4bac-a5f7-15bfc1a22168.png?v=1743479615","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst09002","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}