{"product_id":"ieej-pst11019","title":"低電子温度プラズマＣＶＤによる撥水膜合成とその密着性改善","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003ePST11019\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2011\/05\/28\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003ePreparation of water-repellent films by low electron temperature plasma CVD and an improvement of its adhesion \u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e大津 康徳(佐賀大学),木原 清晴(佐賀大学),三沢 達也(佐賀大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eOhtsu Yasunori(Saga University),Kihara Kiyoharu(Saga University),Misawa Tatsuya(Saga University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e撥水性|低電子温度プラズマ|フッ化ビニリデン|密着性\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e撥水性膜は、様々な分野で防水対策の観点から広く用いられている。本研究では、フッ化ビニリデンガスを用いて、高周波低電子温度プラズマＣＶＤにより、撥水性膜を合成した。更に、基板バイアスを行うことにより、基板との密着性を検討した。基板バイアス電圧を増加することにより、密着性が改善することがわかった。また、その密着強度は基材の硬度に強く依存することも明らかとなった。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e617 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 4","offer_id":46359537877231,"sku":"IEEJ-PST11019-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_1c23d1b2-75d7-4a21-9967-2983ccefed72.png?v=1743485949","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-pst11019","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}