{"product_id":"ieej-sa08032","title":"フィルタードアークプラズマを用いた基板エッチング","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e研究会(論文単位)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003eSA08032\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【B】電力・エネルギー部門　静止器研究会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/06\/23\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eEtching of Substrate by Filtered-Arc-Plasma\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e田上英人(豊橋技術科学大学),益城孝行(豊橋技術科学大学),桶真一郎(豊橋技術科学大学),須田善行(豊橋技術科学大学),滝川浩史(豊橋技術科学大学),神谷雅男(豊橋技術科学大学,伊藤光学),瀧真(オンワード技研),長谷川祐史(オンワード技研),熊谷正夫(神奈川産業技術センター),加納眞(神奈川産業技術センター),石川剛史(日立金属)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHideto Tanoue|Takayuki Mashiki|Shinichiro Oke|Yoshiyuki Suda|Hirofumi Takikawa|Masao Kamiya|Makoto Taki|Yushi Hasegawa\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eT字状フィルタードアーク蒸着装置|アルゴンプラズマ|エッチング|ダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜|T-shape filtered-arc-deposition(T-FAD)|Ar plasma|etching|diamond-like carbon(DLC) film\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e495 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格330円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 7","offer_id":46372893753583,"sku":"IEEJ-SA08032-PDF","price":330.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_b01c8641-0a47-4c83-aa06-288541654367.png?v=1744004745","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-sa08032","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}