{"product_id":"ieej-zt002181","title":"斜めスパッタ下地層を用いたCo-Sm-Oグラニュラー膜のトンネル型磁気抵抗効果","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e2-181\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2000\/03\/21\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eTunneling Magnetoresistance Effect of Co-Sm-O granular films Using Oblique Sputtering Underlayers\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e山内 慎也(豊橋技術科学大学),井上 光輝(豊橋技術科学大学),藤井 壽崇(豊橋技術科学大学),篠浦 治(TDK)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eShinya Yamauchi(Toyohashi University of Technology),Mitsuteru Inoue(Toyohashi University of Technology),Toshitaka Fujii(Toyohashi University of Technology),Osamu Shinoura(TDK Corp.)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eトンネル型磁気抵抗効果|Co-Sm-Oグラニュラー膜|斜めスパッタ\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e斜めスパッタ法により作製した軟磁性薄膜上にCo-Sm-Oグラニュラー膜を成膜し、複合膜の作製を行った。その結果、グラニュラー膜単層の場合のMR比は12kOeの磁界を印加した時最大6.6％程度であった。一方、複合膜においては25Oeの磁界を印加した時最大3.0％となった。以上２つの結果より複合膜では単層膜に比べて200倍程度の磁界感度の改善がはかれた。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e69 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46395537883375,"sku":"IEEJ-ZT002181-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_9f5a8618-9c0c-42a4-beb9-a99e48daeb63.png?v=1744776936","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt002181","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}