{"product_id":"ieej-zt012205","title":"RF方式によるFe-Si-Al-Ni系薄膜の軟磁気特性に及ぼす膜厚依存性","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e2-205\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成13年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2001\/03\/21\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eInfluence of Film Thickness on Soft Magnetic Properties of Fe-Si-Al-Ni Thin Films Prepared in RF Plasma\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e有村 唯史(日本大学),新妻清純 (日本大学),移川 欣男(日本大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTadashi Arimura(Nihon University),Kiyozumi Niizuma(Nihon University),Yoshio Utsushikawa(Nihon University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eRFスパッタリング法|薄膜|飽和磁化|保磁力|磁気異方性|比透磁率\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e6.0wt%Si-4.0wt%Al-3.2wt%Ni-bal.Feの組成を有する「スーパーセンダスト(I)（SS(I)）合金」は、バルク状において飽和磁歪λs≒0であり、DO\u003csub\u003e3\u003c\/sub\u003e型およびB2型規則格子の生成により、優れた軟磁気特性を示すことが知られている。そこで本研究では、Fe-Si-Al-Ni系薄膜の規則格子生成に伴う軟磁気特性の向上を目的として、薄膜作製に最適なガス圧条件のもと種々の膜厚でFe-Si-Al-Ni系薄膜を作製し、膜厚による磁気特性等の違いについて検討した。その結果、膜\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e127 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46395727118575,"sku":"IEEJ-ZT012205-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_0b517389-7531-4587-a0cb-3fb13c72e653.png?v=1744787156","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt012205","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}