{"product_id":"ieej-zt022154","title":"FABスパッタリングによる金薄膜における抵抗温度係数","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e2-154\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2002\/03\/26\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eTemperature　Coefficient　of Resistance of Au Film Sputtered by FAB\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e榊原 剛(中央大学),増田 康宏(中央大学),赤木 正宣(中央大学),橋本 雄一(キャノン)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eTakesi Sakakibara(Chuo University),Yasuhiro Masuda(Chuo University),Masanobu Akagi(Chuo University),Yuichi Hashimoto(Canon Inc.)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e金属薄膜|FABスパッタリング|抵抗の温度係数\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e中性アルゴンビームのスパッタリングによって得られた金薄膜は、厚さが50nm程度あるにもかかわらず、高い抵抗値を示し抵抗の温度係数は負である。この金を熱処理し、金属の伝導性を示すまでの抵抗変化を測定し、その導電機構について検討を行った。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e135 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46395947909359,"sku":"IEEJ-ZT022154-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_c1c543e3-8712-4217-b22a-c21a3602959b.png?v=1744796730","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt022154","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}