{"product_id":"ieej-zt043124","title":"3次元駆動ステージによるマイクロデバイスの試作","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e3-124\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2004\/03\/17\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDevelopment of micro device using 3-D micro drive stages\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e瀬戸本豊 (姫路工業大学),植田寛康 (姫路工業大学),服部正 (姫路工業大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eマイクロデバイス|3次元駆動ステージ|X線マスク\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003eLIGAプロセスのリソグラフィー工程において、3次元駆動ステージを用いて3次元的な構造体を製作する方法がある。しかしこれまでは角度の異なる柱の集合体のようなデバイスを製作するには位置決め精度が不十分であった。そこで本研究では位置決め精度が低下する大きな原因を次の2つであると推測した。X線マスクとレジストのギャップ、X線マスクを取り付ける際の誤差、である。これらを求める実験をマイクロデバイス製作の前に行い、その結果から補正をかけてマイクロデバイスを製作した。しかしまだ満足な結果が得られなかったので先の補正の後に微調整用の補正を加えた。これにより目的に近いマイクロデバイスを製作することができた。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e768 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46396634497263,"sku":"IEEJ-ZT043124-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_b216c973-5283-497c-9493-f8ce3c048d09.png?v=1744815309","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt043124","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}