{"product_id":"ieej-zt053133","title":"硬X線撮影に対するK吸収端の影響","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e3-133\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2005\/03\/15\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eImpact of K absorption end on the hard X-ray image\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e安井 学(神奈川県産業技術総合研究所),増田 信次(神奈川県産業技術総合研究所),平林 康男(神奈川県産業技術総合研究所)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eYasui Manabu(Kanagawa Industrial Technology Research Institute),Masuda Nobutsugu(Kanagawa Industrial Technology Research Institute),Hirabayashi Yasuo(Kanagawa Industrial Technology Research Institute)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eAuグリッドマスク|マイクロフォーカスX線検査装置|LIGAライクプロセス|電鋳\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e非破壊検査に使うマイクロフォーカスX線検査装置は正確な倍率を求める事ができないため，参照用スケールを持つグリッド構造体が要望されてきた。我々は一定間隔のグリッド構造体をグリッドマスクと呼び，Niグリッドマスクを提案した。一方で，硬X線がマイクロフォーカスX線検査装置で使用され始めており，我々は線吸収係数が大きいAuを用いたグリッドマスクの製作と硬X線に対する使用可能性を検討した。その結果，試作できる事，管電圧：130kVでAuグリッドマスクを撮影できる事を確認した。硬X線でAuグリッドマスクを撮影できた理由にAuのK吸収端の存在を考えている。そして，K吸収端がX線画像に与える影響について検討したので報告する。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,339 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 2","offer_id":46396851716335,"sku":"IEEJ-ZT053133-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_2d3918f3-04bb-40e2-8e3d-6635079f9e3e.png?v=1744823316","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt053133","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}