{"product_id":"ieej-zt063015","title":"半導体のフェムト秒レーザ加工特性","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e3-015\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2006\/03\/15\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eCharacteristics of femtosecond laser processing for semiconductors\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e藤田雅之 (レーザー技術総合研究所),井澤友策 (大阪大学),木下 篤 (大阪大学),近田和敬 (近畿大学),中野人志 (近畿大学),橋田昌樹 (京都大学),井澤靖和 (大阪大学),山中千代衛 (レーザー技術総合研究所)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eレーザ加工|フェムト秒レーザ\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e我々は、電子産業において重要な材料である半導体Siのフェムト秒レーザ加工に着目し研究を進めている。低強度（\u0026lt;1J\/cm2）のフェムト秒レーザ照射における半導体表面の加工現象について、波長依存性、照射強度依存性に関する実験を行った。アブレーションレートの照射強度依存性から実効的吸収係数を求めた。その値は分光データで得られる吸収係数と大きく異なることが明らかとなり、瞬間的なキャリアの励起が影響しているものと考えられる。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e533 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46397086597359,"sku":"IEEJ-ZT063015-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_7c285efb-2cbe-43de-8c25-c7fc6465af59.png?v=1744831136","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt063015","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}