{"product_id":"ieej-zt071184","title":"高強度パルスイオンビーム加速用アルミイオン源の開発","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e1-184\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2007\/03\/15\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eDevelopment of ion source for high-intensity pulsed aluminum ion beam\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e王 立東 (富山大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eアルミイオン源|イオン注入\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e高強度パルス金属イオンビームは半導体材料へのパルスイオン注入を含めて多くの分野への応用が期待されている。真空アーク放電は高密度の金属プラズマを生成することができる。本研究では、半導体イオン注入への応用が期待されるアルミニウム(Al)イオンビーム発生のためAl真空アークイオン源の開発を行っている。これまでの真空アークイオン源の実験では、電極構造を同軸ガン型形状で行っていたが、shotごとの安定性に欠けていた。そこで、新しい電極構造を用いた真空アーク放電によるプラズマ生成特性の評価を行ったので報告する。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e798 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46397228777711,"sku":"IEEJ-ZT071184-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_d67077ec-f8e1-498b-a95e-5b1bcfe14343.png?v=1744838021","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt071184","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}