{"product_id":"ieej-zt073011","title":"フェムト秒レーザーを用いたSiの相制御","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e3-011\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2007\/03\/15\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003ePhase control of Si by femtosecond laser pulses\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e藤田 雅之(レーザー技術総合研究所),井澤 友策(大阪大学),近田 和敬(近畿大学),鶴見 洋輔(近畿大学),中野 人志(近畿大学),吉田 実(近畿大学),井澤 靖和(大阪大学),山中 千代衛(レーザー技術総合研究所)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eMasayuki Fujita(Institute for Laser Technology),Yusaku Izawa(Institute of Laser Engineering),Kazutaka Chikada(Kinki University),Yosuke Tsurumi(Kinki University),Hitoshi Nakano(Kinki University),Minoru Yoshida(Kinki University),Yasukazu Izawa(Institute of Laser Engineering),Chiyoe Yamanaka(Institute for Laser)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eレーザ加工|フェムト秒レーザ\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e低フルーエンスのフェムト秒パルスを単結晶Siに照射すると極浅のアモルファス層を形成することが出来る。また、単結晶Si上にアモルファスSiをスパッタした試料に低フルーエンスのフェムト秒パルスを照射すると、アモルファス層の再結晶化を促すことが可能となる。いずれの過程も常温、大気中で行うことができる。今回、我々はそれぞれの過程のレーザ照射条件に関して実験的な結果を報告する。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e773 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46397245620463,"sku":"IEEJ-ZT073011-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_9f405d49-6587-4e0f-a94b-27f54129c4ff.png?v=1744839480","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt073011","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}