{"product_id":"ieej-zt083114","title":"X線マスク直接露光による構造体の作製","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e3-114\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/03\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eFabrication of X-ray mask structure by direct exposure\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e高橋 正樹(兵庫県立大学),辻井 浩(兵庫県立大学),嶋田 和真(兵庫県立大学),矢代 航(東京大学),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eNaoki Takahashi(University of Hyogo),Hiroshi Tujii(University of Hyogo),Kazuma Shimada(University of Hyogo),Wataru Yashiro(The University of Tokyo),Daiji Noda(University of Hyogo),tadashi Hattori(University of Hyogo)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eX線|X線リソグラフィ\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e本研究では試料の表面粗さやX線マスクの表面粗さによって、ギャップが生じる従来のX線リソグラフィとは異なり、X線マスク上にレジストを塗布して、直接露光することによってX線マスクと試料との間にあったギャップを無くし、X線マスク上に高アスペクト比構造体の作製をおこなった。作製したX線マスク上の構造体にAuめっきをした。X線マスク上にライン＆スペース1対1、ピッチ5.3μm、Au厚さ11μmの構造体が作製できた。今後は作製したX線マスク上の構造体にレジストを塗布して直接露光を行い、めっきする。これを繰り返すことによって、さらに高アスペクト比構造体の作製を行っていく。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e1,818 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 2","offer_id":46397432660207,"sku":"IEEJ-ZT083114-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_c4866879-a282-4c29-9cae-c7588245b757.png?v=1744848724","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt083114","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}