{"product_id":"ieej-zt083115","title":"ICP-RIE装置による高精度X線マスクの作製","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e3-115\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2008\/03\/19\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eFabrication of precise X-ray mask using ICP-RIE\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e辻井 浩(兵庫県立大学),嶋田 和真(兵庫県立大学),矢代 航(東京大学),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHiroshi Tsujii(University of Hyogo),Kazuma Shimada(University of Hyogo),Wataru Yashiro(The University of Tokyo),Daiji Noda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eドライエッチング|X線マスク|リソグラフィ|Si|ICP|めっき\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e高アスペクト比構造体の作製にはSR光を用いたLIGAプロセスが用いられる。従来のUVリソグラフィだけではプロセスに用いるX線マスクの高精度化が難しい。X線マスクの精度は最終製品の精度に大きく関わる。そこで本研究ではUVリソグラフィに微細加工が可能なSiドライエッチング工程を加えX線マスクの作製を行った。作製したSi構造体にCrをスパッタすることによりシード層を形成し、幅2.6μmの狭所に高さ6.2μmのAuを埋め込むことができた。今後はX線マスクを完成させ、X線リソグラフィを行うことで、ICP-RIE装置を用いて作製した高精度X線マスクの有用性を明らかにしていく。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e965 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46397432758511,"sku":"IEEJ-ZT083115-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_a5947611-7192-4cb9-94ad-937732980867.png?v=1744848727","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt083115","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}