{"product_id":"ieej-zt131196","title":"マイクロ波励起水中気泡プラズマによるレジスト膜除去プロセス","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e1-196\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2013\/03\/05\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eResist Removal Process using microwave excited bubble plasma under water\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e野阪 幸平(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),堀邊 英夫(金沢工業大学),後藤 洋介(金沢工業大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eKouhei Nosaka(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Hideo Horibe(Kanazawa Institute of Technology),Yousuke Goto(Kanazawa Institute of Technology)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003e液中プラズマ|レジスト処理\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e半導体製造工程におけるレジスト膜除去において、イオン注入されたレジストは変性し除去が困難となる。本報告では液中プラズマ技術を用いて除去が困難なイオン注入レジストの処理を行った。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e246 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46399218483439,"sku":"IEEJ-ZT131196-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_4119fb02-d16c-498f-93ef-ee666ca8f065.png?v=1744892573","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt131196","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}