{"product_id":"ieej-zt166042","title":"サブストレートヒューズにおける並列遮断点効果の要因に関する検討","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e6-042\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2016\/03\/05\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eExamination of Parallel Interruption Points Effect on Substrate Fuse\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e庄司 晴紀(埼玉大学),山納 康(埼玉大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eHaruki Shoji(Saitama University),Yasushi Yamano(Saitama University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eサブストレートヒューズ,並列遮断点,アーク\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003eサブストレートヒューズとはセラミック基板上にヒューズエレメントを形成したものである。このヒューズにおいて，遮断部を並列に分割し，並列遮断点数を増やすことによって，遮断特性が向上することが確認されている。この並列遮断点数の増加による遮断特性の向上効果をP効果と呼ぶ。また，精密電鋳技術を応用し，微細な遮断部が形成された微細加工ヒューズエレメントを製作し，その遮断特性を調査したところ，P効果には限界があることが確認できた。本論文では，遮断部をエレメントの中心方向に寄せ，隣り合う遮断部の間隔を変化させることで，P効果の要因を追求した。P効果は，発孤時の隣接するアークにより影響されることが示唆された。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e320 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46400923271407,"sku":"IEEJ-ZT166042-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_ed3f7400-1372-4466-a147-426832ca0882.png?v=1744931301","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt166042","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}