{"product_id":"ieej-zt191079","title":"真空紫外吸収分光法を用いたTiN成膜用HiPIMSプラズマ中の窒素原子密度計測","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e1-079\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2019\/03\/01\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eThe measurement of nitrogen-atom density by ultraviolet absorption spectroscopy on high power impulse magnetron sputtering plasma for TiN deposition\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003e中村 将之(名城大学),竹田 圭吾(名城大学),太田 貴之(名城大学)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eMasayuki Nakamura(Meijo University),Keigo Takeda(Meijo University),Takayuki Ohta(Meijo University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング,真空紫外吸収分光法,窒化チタン膜,反応性スパッタリング\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003e中性粒子のイオン化促進と高エネルギーイオンの生成が可能なハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)において，マイクロホローカソード光源を用いる真空紫外吸収分光法によりN2\/Ar ガス下におけるTi - HiPIMSプラズマ中の基底状態N原子密度計測を行った．ターゲットに印加するパルス電圧を増加させると，光吸収率，すなわちN原子密度は電源電圧の増加に伴いほぼ比例的に増加し，N2分子の解離が進むことが示唆された．\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e350 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46401711571183,"sku":"IEEJ-ZT191079-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_9131523a-d853-4db3-867d-284b4c200e75.png?v=1744951937","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt191079","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}